在電子行業尤其是芯片制造領域，超純水是 “不可或缺的生產原料”—— 從晶圓清洗、光刻顯影到封裝測試，每一個環節對水質的要求嚴苛到任何微小的水質波動都可能導致芯片良率下降甚至報廢。

傳統超純水制備工藝（如 “多介質過濾 + 反滲透 + 混床”）常面臨兩大痛點：

一是深度除雜能力不足，TOC、微量金屬離子難以穩定控制在限值內；

二是混床樹脂需頻繁再生，產生危廢且影響水質穩定性，無法匹配芯片生產的 “高可靠、低波動” 需求。

蘇州一清環?？萍加邢薰疽劳?“紫外催化氧化 + 多級精密膜過濾 + EDI 深度脫鹽” 的一體化精密過濾技術，精準破解超純水制備的精度與穩定性難題，為芯片生產提供穩定、達標、低耗的超純水保障。

一、核心技術原理：多級精密凈化，鎖定超純水精度

1.紫外催化氧化預處理：

蘇州一清采用定制化紫外催化氧化模塊（基于 UV-AOP 技術改良）：通過紫外光激活專用催化劑，生成羥基自由基（?OH），高效降解原水中的 TOC（尤其是難分解的小分子有機物）；

同時，紫外光可直接殺滅水中的細菌、病毒，避免微生物滋生形成生物膜堵塞后續過濾單元，為深度凈化奠定 “低污染” 基礎。

2.多級膜精密過濾：

截留微小雜質與離子針對顆粒物、膠體與大部分離子，技術體系集成超濾（UF）+ 納濾（NF）+ 反滲透（RO） 三級膜過濾

3.EDI 深度脫鹽：EDI 模塊無需酸堿再生，徹底解決傳統混床 “再生危廢、水質波動” 的問題，實現超純水制備的 “零危廢、高穩定” 運行。

二、實際工程項目案例：公司落地項目保障生產實效

蘇州一清的精密過濾技術已在電子行業多個超純水項目中落地，針對芯片制造、半導體封裝等不同場景的水質需求，均實現穩定達標：

1.某半導裝企業主要從事芯片后段封裝，原超純水系統因 TOC 波動導致封裝環節出現芯片表面污染，良率受影響。

蘇州一清為其定制 “紫外催化氧化 + UF+RO+EDI” 精密過濾方案，替換原系統的預處理單元并升級末端精處理。

項目投運后，超純水 TOC 穩定控制，無水質波動問題，芯片封裝良率較之前提升 5%，且無需處理混床再生危廢。

2.某芯片測試企業從事芯片成品測試，需超純水用于測試環節的晶圓清洗，原工藝無法穩定控制金屬離子。

蘇州一清接入 “多級膜過濾 + EDI 精密脫鹽” 模塊，與企業原有預處理系統兼容對接。

運行后，超純水指標均滿足標準，測試環節未再出現因水質導致的測試誤差，系統連續穩定運行多月無故障。

三、設備特性與工藝適配：貼合電子行業生產需求

電子行業對超純水系統的 “穩定性、靈活性、低干擾” 要求極高，蘇州一清的精密過濾技術在設備設計與工藝適配性上充分貼合這些需求：

1.模塊化與定制化：

適配不同產能針對芯片企業 “產能分階段擴張” 的特點，技術體系采用撬裝式模塊化設計；

2.全流程智能監控：

確保水質零波動所有超純水設備均搭載蘇州一清自主研發的 “水質實時監控與智能調控系統完美匹配芯片生產的 “24 小時不間斷、高穩定” 需求；

3.低干擾與易運維：

契合電子廠管理規范設備采用 “全封閉管路 + 防腐材質”，避免外界污染物滲入；

運維環節無需酸堿操作（因 EDI 無再生需求），符合電子廠 “無塵、無危廢” 的管理規范；

同時，系統支持遠程運維，工程師可通過云端查看設備運行狀態、預警故障，現場僅需定期更換濾芯，大幅降低電子廠的運維壓力。

四、核心技術優勢精準匹配芯片生產水質需求

水質精度高，達標無壓力

運行穩定可靠，良率有保障

節能降廢，成本可控

靈活適配，易擴展

運維門檻低，管理省心

五、助力電子行業發展：為芯片國產化提供水質支撐

當前，我國芯片國產化進程加速，電子行業對超純水的 “高精度、高穩定、低能耗” 需求日益迫切，超純水制備已成為影響芯片生產效率與質量的關鍵環節。

蘇州一清的精密過濾技術，不僅為電子企業提供了穩定的超純水解決方案，更通過 “節能降廢” 助力企業實現綠色生產，契合國家 “雙碳” 與 “高端制造升級” 政策導向。

未來，蘇州一清將進一步升級超純水技術，依托自主研發實力，蘇州一清將持續為電子行業提供更優質的超純水解決方案，為芯片國產化進程保駕護航。

電子行業超純水制備有何良方？蘇州一清精密過濾技術滿足芯片生產需求--蘇州一清環保科技有限公司